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米吡氯銨可用于制備一種能夠抑制半導體裝置、微機械這樣的由氧化硅形成的微細結構體的圖案倒塌的處理液。
米吡氯銨應用舉例如下：
一種用于抑制微細結構體的圖案倒塌的處理液，其是用于抑制由氧化硅形成的微細結構體的圖案倒塌的處理液，所述處理液含有選自具有碳原子數12、碳原子數14或碳原子數16的烷基的咪唑鎓鹵化物、具有碳原子數14或碳原子數16的烷基的吡啶鎓鹵化物和具有碳原子數16或碳原子數18的烷基的鹵化銨中的至少一種及水。其中，碳原子數12的烷基為十二烷基、碳原子數14的烷基為十四烷基、碳原子數16的烷基為十六烷基、碳原子數18的烷基為十八烷基；咪唑鎓鹵化物為選自1?十二烷基?3?甲基氯化咪唑鎓、1?十四烷基?3?甲基氯化咪唑鎓和1?十六烷基?3?甲基氯化咪唑鎓中的1種以上。吡啶鎓鹵化物為選自十四烷基氯化吡啶鎓、十六烷基氯化吡啶鎓、1?十四烷基?4?甲基氯化吡啶鎓（米吡氯銨）1?十六烷基?4?甲基氯化吡啶鎓中的1種以上；鹵化銨為選自十六烷基三甲基氯化銨、十八烷基三甲基氯化銨、芐基二甲基十六烷基氯化銨和芐基二甲基十八烷基氯化銨中的1種以上；咪唑鎓鹵化物、吡啶鎓鹵化物和鹵化銨的含量為10ppm～10%。
制造方法，在濕式蝕刻或干式蝕刻之后的洗滌工序中，使用含有選自具有碳原子數12、碳原子數14或碳原子數16的烷基的咪唑鎓鹵化物、具有碳原子數14或碳原子數16的烷基的吡啶鎓鹵化物和具有碳原子數16或碳原子數18的烷基的鹵化銨中的至少一種及水的用于抑制微細結構體的圖案倒塌的處理液。其中由氧化硅形成的微細結構體為半導體裝置或微機械。